În prezent, aproape toate obiectivele din cupru metalic de puritate ultra-înaltă cerute de industria IC sunt monopolizate de mai multe companii multinaționale străine mari.Toate țintele de cupru ultrapur necesare industriei interne de circuite integrate trebuie să fie importate, ceea ce nu este doar costisitor, ci și complicat în procedurile de import. Prin urmare, China trebuie să îmbunătățească urgent dezvoltarea și verificarea țintelor de pulverizare cu cupru de puritate ultra-înaltă (6N) .Să aruncăm o privire asupra punctelor cheie și dificultăților în dezvoltarea țintelor de pulverizare cu cupru de puritate ultra-înaltă (6N).
1、Dezvoltarea materialelor de ultra-puritate
Tehnologia de purificare a metalelor de înaltă puritate Cu, Al și Ta din China este departe de cea din țările industrial dezvoltate.În prezent, majoritatea metalelor de înaltă puritate care pot fi furnizate nu pot îndeplini cerințele de calitate ale circuitelor integrate pentru ținte de pulverizare, conform metodelor convenționale de analiză a tuturor elementelor din industrie.Numărul de incluziuni în țintă este prea mare sau distribuit inegal.Particulele se formează adesea pe placă în timpul pulverizării, ducând la scurtcircuit sau circuit deschis de interconectare, ceea ce afectează grav performanța filmului.
2、Dezvoltarea tehnologiei de preparare a țintei de pulverizare cu cupru
Dezvoltarea tehnologiei de pregătire a țintei de pulverizare cu cupru se concentrează în principal pe trei aspecte: dimensiunea granulelor, controlul orientării și uniformitatea.Industria semiconductoarelor are cele mai înalte cerințe pentru pulverizarea țintelor și evaporarea materiilor prime.Are cerințe foarte stricte pentru controlul mărimii granulelor de suprafață și orientării cristalului țintei.Dimensiunea granulelor țintei trebuie controlată la 100μ M mai jos, prin urmare, controlul mărimii granulelor și mijloacele de analiză și detecție a corelației sunt foarte importante pentru dezvoltarea țintelor metalice.
3、Dezvoltarea analizei şitestarea tehnologie
Puritatea ridicată a țintei înseamnă reducerea impurităților.În trecut, plasma cuplată inductiv (ICP) și spectrometria de absorbție atomică erau utilizate pentru a determina impuritățile, dar în ultimii ani, analiza calității descărcării strălucitoare (GDMS) cu sensibilitate mai mare a fost utilizată treptat ca standard. metodă.Metoda RRR a raportului de rezistență reziduală este utilizată în principal pentru determinarea purității electrice.Principiul său de determinare este de a evalua puritatea metalului de bază prin măsurarea gradului de dispersie electronică a impurităților.Deoarece este pentru a măsura rezistența la temperatura camerei și la temperatură foarte scăzută, este simplu să luați numărul.În ultimii ani, pentru a explora esența metalelor, cercetările privind puritatea ultra-înaltă sunt foarte active.În acest caz, valoarea RRR este cea mai bună modalitate de a evalua puritatea.
Ora postării: mai-06-2022