Ținta are multe efecte, iar spațiul de dezvoltare a pieței este mare.Este foarte util în multe domenii.Aproape toate echipamentele noi de pulverizare folosesc magneți puternici pentru a spirala electronii pentru a accelera ionizarea argonului în jurul țintei, ceea ce duce la o creștere a probabilității de coliziune între țintă și ionii de argon.Acum să aruncăm o privire asupra rolului țintei pulverizate în acoperirea cu vid.
Îmbunătățiți rata de pulverizare.În general, pulverizarea DC este utilizată pentru acoperirea metalului, în timp ce pulverizarea RF AC este utilizată pentru materialele magnetice ceramice neconductoare.Principiul fundamental este de a folosi descărcarea strălucitoare pentru a lovi ionii de argon (AR) de pe suprafața țintei în vid, iar cationii din plasmă se vor accelera pentru a ajunge la suprafața electrodului negativ ca material stropit.Acest impact va face ca materialul țintei să zboare și să se depună pe substrat pentru a forma o peliculă.
În general, există mai multe caracteristici ale acoperirii filmului prin procesul de pulverizare: (1) metalul, aliajul sau izolatorul pot fi transformate în date de film.
(2) În condiții de setare adecvate, filmul cu aceeași compoziție poate fi realizat din ținte multiple și dezordonate.
(3) Amestecul sau compusul de material țintă și molecule de gaz poate fi produs prin adăugarea de oxigen sau alte gaze active în atmosfera de descărcare.
(4) Curentul de intrare țintă și timpul de pulverizare pot fi controlate și este ușor să obțineți grosimea filmului de înaltă precizie.
(5) În comparație cu alte procese, este favorabil producției de filme uniforme de suprafață mare.
(6) Particulele pulverizate sunt aproape neafectate de gravitație, iar pozițiile țintei și substratului pot fi aranjate liber.
Ora postării: 17-mai-2022