Odată cu creșterea cererii de pe piață, tot mai multe tipuri de ținte de pulverizare sunt actualizate în mod constant.Unele sunt familiare, iar altele sunt necunoscute clienților.Acum, am dori să vă împărtășim care sunt tipurile de ținte de pulverizare cu magnetron.
Țintele de pulverizare au următoarele tipuri: țintă de acoperire prin pulverizare metalică, țintă de acoperire cu pulverizare din aliaj, țintă de acoperire cu pulverizare ceramică, țintă de pulverizare cu boruri de ceramică, țintă pentru pulverizare cu ceramică cu carbură, țintă pentru pulverizare cu ceramică fluorură, țintă pentru pulverizare ceramică cu nitrur, țintă pentru pulverizare ceramică cu oxid, țintă pentru pulverizare cu seleniu , țintă de pulverizare ceramică cu siliciu, țintă de pulverizare cu ceramică sulfurată, țintă de pulverizare ceramică cu telururi, alte ținte ceramice, țintă ceramică cu oxid de siliciu dopat cu crom (CR SiO), țintă cu fosfură de indiu (INP), țintă cu arseniură de plumb (pbas), țintă cu arseniură de indiu (InAs) ).
Pulverizarea cu magnetron este, în general, împărțită în două tipuri: pulverizare DC și pulverizare RF.Principiul echipamentului de pulverizare DC este simplu, iar viteza acestuia este, de asemenea, rapidă atunci când pulverizați metal.Pulverizarea RF este utilizată pe scară largă.Pe lângă pulverizarea datelor conductive, poate, de asemenea, să pulverizeze date neconductoare.În același timp, ținta de pulverizare efectuează și pulverizare reactivă pentru a pregăti date despre compuși, cum ar fi oxizi, nitruri și carburi.Dacă frecvența RF crește, va deveni pulverizare cu plasmă cu microunde.În prezent, pulverizarea cu plasmă cu microunde prin rezonanță electron cyclotron (ECR) este utilizată în mod obișnuit.
Ora postării: 18-mai-2022