Acum din ce în ce mai mulți utilizatori înțeleg tipurile de ținte șiaplicațiile sale, dar subdiviziunea acestuia poate să nu fie foarte clară.Acum hai săinginer RSM imparte cu tineceva inducție a țintelor de pulverizare cu magnetron.
țintă de pulverizare: țintă de acoperire prin pulverizare metalică, țintă de acoperire cu pulverizare din aliaj, țintă de acoperire cu pulverizare ceramică, țintă de pulverizare ceramică borur, țintă de pulverizare ceramică cu carbură, țintă de pulverizare ceramică cu fluorură, țintă de pulverizare ceramică cu nitrur, țintă de oxid ceramic, țintă de pulverizare ceramică selenidă, țintă de pulverizare ceramică cu selenidă țintă, țintă de pulverizare cu ceramică sulfurată, țintă de pulverizare ceramică cu telururi, alte ținte ceramice, țintă ceramică cu oxid de siliciu dopat cu crom (CR SiO), țintă cu fosfură de indiu (INP), țintă cu arseniură de plumb (pbas), țintă cu arseniură de indiu (InAs).
Pulverizarea cu magnetron este, în general, împărțită în două tipuri: pulverizare DC și pulverizare RF.Principiul echipamentului de pulverizare DC este simplu, iar viteza acestuia este, de asemenea, rapidă atunci când pulverizați metal.Pulverizarea RF este utilizată pe scară largă.Pe lângă pulverizarea datelor conductive, poate, de asemenea, să pulverizeze date neconductoare.Ținta de pulverizare poate fi, de asemenea, utilizată pentru pulverizarea reactivă pentru a pregăti date despre compuși, cum ar fi oxizi, nitruri și carburi.Dacă frecvența RF crește, va deveni pulverizare cu plasmă cu microunde.În prezent, pulverizarea cu plasmă cu microunde prin rezonanță electron cyclotron (ECR) este utilizată în mod obișnuit.
Ora postării: 26-mai-2022